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Test methode für Stress von mono kristallinen Saphir-Ingot

Test Method for Stress of Monocrystalline Sapphire Ingot


Saphir ist ein wichtiges optisches Material, das in vielen Bereichen wie Wissenschaft und Technologie, Landes verteidigung und Zivil industrie weit verbreitet ist. Aufgrund der einzigartigen mechanischen Verarbeitung eigenschaften von Saphirglas kann die Präzisions schleif-und Polierte chno logie der IC-Wafer-Verarbeitung ultra präzise nano große Substrat wafer erhalten, die in Wissenschaft und Technologie, der nationalen Verteidigung und der Zivil industrie, der elektronischen Technologie und vielen anderen Bereichen weit verbreitet sind. Als größtes Anwendungs gebiet von Saphir substrat wafern sind LED-Chips in der LED-Beleuchtungs industrie weit verbreitet, was einen wichtigen Einfluss auf die Entwicklung der Saphir industrie hat.


Test Method for Stress of Monocrystalline Sapphire Ingot


Unter Verwendung des von Suzhou PTC Optical Instrument Co., Ltd. entwickelten und hergestellten Stress betrachters zur Erkennung des Saphir barrens kann das konoskopische Muster beobachtet werden. Das konoskopische Muster besteht aus schwarzen Kreuzen und konzentrischen Interferenz farbkreisen. Der Interferenz farbkreis ist auf dem Schnittpunkt des schwarzen Kreuzes (dem Taupunkt der optischen Achse) zentriert und bildet einen konzentrischen Ring. Die Anzahl der Interferenz farbkreise hängt von der Größe und Dicke der Doppel brechung des Kristalls ab. Wenn die lokale reguläre Struktur des Kristalls zerstört wird, ändert die erzeugte Spannung die Richtung der optischen Achse an dieser Position. Und wenn der Strahl diese Position passiert, wird das schwarze Kreuz im erhaltenen konoskop ischen Muster deformiert. Daher kann die Spannung des Kristalls durch Beobachtung des konoskop ischen Musters an jeder Position des Kristalls detektiert werden.

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